Vishay Intertechnology investiert 400 Millionen Dollar in Chipfabrik in Itzehoe

150 neue Arbeitsplätze entstehen im Rahmen der Expansion

Im „Reinraum“ in der Produktion wird durch ein spezielles Belüftungssystem die Anzahl an Staubkörnchen so gering wie möglich gehalten

Der Halbleiter-Konzern Vishay Intertechnology investiert 400 Millionen Dollar für den ersten Bauabschnitt in eine hochmoderne Chipfabrik in Itzehoe. Im Beisein von Vertretern aus Wirtschaft und Politik wurde beim Spatenstich der Startschuss des Neubaus einer 300 Millimeter Fabrik für Automotive-MOSFETs auf dem sechs Hektar großen Grundstück besiegelt. Es ist bereits die zweite Produktion Vishays am Standort. Ab Ende 2025 soll die Herstellung in Betrieb genommen werden. Die erste Phase der Standorterweiterung wird die Produktionskapazitäten des Herstellers fast verdoppeln. 150 Stellen für unterschiedliche Qualifikationen werden im Zuge der Expansion neu geschaffen.

Wenn alles nach Plan verläuft, wird noch in diesem Jahr der Rohbau fertig sein. Im nächsten Jahr soll das Herzstück der Chipfabrik, der hochsensible Reinraum, samt technischer Gebäudeausrüstungen entstehen und spätestens Anfang 2026 die ersten Wafer ausgeliefert werden können. Notwendig wurde die Expansion, da Vishay Intertechnology an die Grenzen seiner Kapazitäten gestoßen ist. Mit der Steigerung der MOSFET-Fertigung leistet es einen wichtigen Beitrag zur Wafer-Versorgungssicherheit. Bereits die erste Stufe der dreistufigen Investition wird die größte in der Geschichte des Unternehmens sein.

Baustellenvorbereitung für Chipfabrik abgeschlossen

Für das Fundament der neuen Fabrik werden 500 Pfähle benötigt. Zur Vorbereitung der Baustelle wurde in den vergangenen Monaten eine Bodenplatte entfernt, auf der vor mehr als 20 Jahren bereits eine Chipfabrik entstehen sollte. Aufgrund der Nähe zur direkt angrenzenden 200 Millimeter Fabrik von Vishay musste sie besonders vorsichtig abgetragen werden, um die Produktion der hochsensiblen Bauelemente nicht zu gefährden. Kernstück des neuen Gebäudes wird der Reinraum für die 300 Millimeter Wafer-Technologie sein. Im ersten Abschnitt ist der Bau von 2.100 Quadratmeter Reinraumfläche geplant. Später wird die Reinraumfläche auf 4.000 Quadratmeter erweitert und erreicht damit die Größe eines Fußballfeldes. Neben der Fertigungsstätte werden zusätzlich benötigte Raumkapazitäten geschaffen.

MOSFETs sind Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistoren. Als Wafer werden die Siliziumscheiben bezeichnet, auf denen die die Mikrochips hergestellt werden. Die 300 Millimeter Wafer sind weniger als ein Millimeter dick. Es können sich bis zu 400.000 einzelne Bauteile darauf befinden. Sie werden nahezu überall verwendet und in immer größeren Quantitäten gebraucht. In fünf bis zwölf Wochen durchläuft ein Wafer bis zu 250 Prozess-Schritte im Reinraum. Die Fertigungsprozesse dieser nur Bruchteile eines Mikrometers großen Strukturen sind hochkomplex und bedürfen eines umfassenden technischen Know-hows und einer besonderen Arbeitsumgebung. Dafür wurden am Standort Itzehoe die passenden Bedingungen geschaffen.

Partner der Automobilindustrie

Vor acht Jahren holte der Vishay Konzern die komplette Automotive-Produktion nach Itzehoe. Die jetzige Investition sichert die Zukunft des Standorts und der Belegschaft für viele weitere Jahre. „Wir sind stolz darauf, dass wir hier in Itzehoe einen Beitrag dazu leisten werden, dass Europa unabhängiger wird von Produzenten in anderen Teilen der Welt und von vulnerablen Lieferketten“, kommentiert Leif Henningsen, Geschäftsführer von Vishay Siliconix Itzehoe, die Expansion. „Wir lassen uns nicht von kurzfristigen Schwankungen auf dem Halbleitermarkt davon abbringen, langfristige Strategien zu verfolgen. Die Automobilindustrie baut auch zukünftig auf unsere Technologien“, ergänzt Tilo Bormann, Leiter der Wafer-Herstellung der Transistor-Sparte.